Cellpherma セルファーマ

Cellpharma

わきや足の気になるにおいに

セルファーマデオドランドクリーム　商品画像

全成分表示　有効成分　クロルヒドロキシアルミニウム
その他の成分　水、デカメチルシクロペンタシロキサン、トリ2－エチルヘキサン酸グリセリル、エタノール、ポリアクリル酸アルキル、BG、ジメチコン、ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体、架橋型ジメチコン、グリセリンモノ-2-エチルヘキシルエーテル、dl-α-トコフェロール、ビタミンE、ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト

セルファーマデオドランドクリーム[医薬部外品]

気になるにおいのケアにお使いいただける低刺激性のクリームです。　● 汗に強い処方で、長時間デオドランド効果が持続します。　● のびが良く、さらっとした軽い使用感で、汗をかきやすい部位にも快適にご使用いただけます。

汗はエクリン腺とアポクリン腺から分泌されますが、特にアポクリン腺からたんぱく質や脂質が多く含まれた汗が出ています。汗そのものは無臭ですが、汗に含まれるたんぱく質や脂質が皮膚上の菌によって分解されることで、独特のにおいが発生します。セルファーマデオドラントクリームは、においの原因を改善し、気になるにおいを防ぎます。

使用方法

● わきや足などにおいの気になるところに適量を塗布してください。<ご使用の目安>わき：片わきで1プッシュ足の指の間：片足で1プッシュ 1日2回朝晩 ※他の制汗剤をご使用の場合は、先にセルファーマデオドラントクリームをお使いください。

使用上のご注意

顔、粘膜および除毛直後の肌へのご使用はお避けください。

くすみのない、きらめく肌へ

〔近日発売予定〕セルファーマ HQスティック　商品画像

主な成分　ハイドロキノン、グリコール酸、トコフェロール、レチノイン酸トコフェリル　全成分表示　配合成分　ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン、セレシン、ジメチコン、トリエチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、テトラ（ヒドロキシステアリン酸／イソステアリン酸）ジペンタエリスリチル、ハイドロキノン、ポリメタクリル酸メチル、カルナウバロウ、グリコール酸、トコフェロール、レチノイン酸トコフェリル、トリ（カプリル酸／カプリン酸）グリセリル、EDTA-2Na、メチコン、タルク、シリカ、マイカ

セルファーマ HQスティック〔スティック状クリーム〕

くすみのない、きらめく肌を保ちます。●しみ、そばかす、バストトップやビキニラインが気になる方に。　●ハイドロキノン※を5％配合しています。　●ポイントケアに適したスティックタイプです。　※ハイドロキノン:製品の抗酸化剤

使用方法

●スティックを5mm程度出し、気になる部分に直接軽く塗布してください。　●化粧水やクリーム、ボディ用美容液などをお使いの場合は、お手入れの最後に本品を肌の気になる部分に直接塗布してください。　●ハイドロキノンの使用中に日光にあたると、しみが濃くなることがあります。顔など衣服で覆われない部位にお使いの場合は、日中、本品をお使いのあとに日やけ止めによって遮光をしてください。

昼・夜:化粧水、クリーム、美容液など→昼・夜:セルファーマ　HQスティック→昼:遮光（日光に当たる部位のとき）

※セルファーマ HQスティックを使用する際には、必ず医師の指示に従ってください。

使用上のご注意

●スティックを出しすぎたり強く力を入れると折れることがあります。　●衣服についた場合は、洗剤でていねいに洗ってください。　●開封後はなるべく早く使用してください。　●顔など直接日光に当たる部位にお使いの場合、日中は、日やけ止め等によって遮光をしてください。また長時間、直射日光にあたる場合は、使用しないでください。　●本品はリップクリームではありません。唇などの粘膜には使用しないでください。　●妊娠中、授乳中の方はご使用をお控えください。

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